MPCVD單晶金剛石生長機器設備

微波等離子體化學氣相沉積 (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition )是高效、高質量制備金剛石的首選方法，打破了設備對襯底尺寸的限制，為大面積單晶金剛石生長提供條件。

關鍵詞：標準漏孔 | MPCVD | 電容薄膜規真空計 | 高低真空校準裝置 | 氦漏孔校準裝置

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產品詳情

微波等離子體化學氣相沉積

Microwave Plasma CVD system

MPCVD單晶金剛石生長技術一般采用金屬腔體，由于其微波能量無污染、氣體原料純凈、沒有催化劑和雜質的摻入等優勢，使得金剛石的質量得到改善，成為高品質單晶金剛石最有發展前景的技術之一，大大拓展了金剛石材料在高新技術領域的應用潛力。

設備特點

• 全自動工控界面、支持遠程操控.

• 一鍵式開關機，實現無人值守.

• 自動非接觸式遠紅外測溫.

• 選用進口微波器、水路全監測.

• 可選用無油真空泵加分子泵.

• 使用高精度氣體質量流量計，高可靠性穩定的壓力控制系統.

• 反應可控，能長時間穩定工作在6KW

• 高功率高密度等離子體穩定在離石英窗一定位置，減少硅的污染

應用

• 高效導熱材料.

• 新型半導體材料.

• 新型刀具、模具、磨料.

• 人工培育鉆石.

• 光學鏡片

• 量子傳感器/NV色心量子器件

• 納米金剛石材料

• 第四代半導體材料